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主 頁(yè) 冷弧等離子射流源 射頻CCP 射頻ICP 微波ECR等離子體 微波表面波等離子炬 環(huán)縫微波等離子試驗(yàn)裝置 微波表面波等離子鍍膜 等離子體配套設(shè)備 文檔下載 聯(lián)系方式   微波ECR（電子回旋共振）等離子體發(fā)生裝置的工作原理是：由微波管產(chǎn)生的微波（2450 MHz）經(jīng)波導(dǎo)系統(tǒng)和石英窗平行于磁場(chǎng)注入微波ECR共振腔；微波在ECR共振層加熱電子，電離 充入真空室中的工作氣體產(chǎn)生高密度等離子體。等離子體沿著發(fā)散場(chǎng)磁力線(xiàn)擴(kuò)散至下游處理 室，用于在基片表面沉積薄膜、刻蝕和表面處理，或用于產(chǎn)生原子氧束或離子束。 型號(hào) 微波源 微波傳輸系統(tǒng) 磁體系統(tǒng) 共振腔尺寸 ECR－1500 等離子體源 1500W高穩(wěn)定 程控微波源 BJ-22環(huán)行器、水阻、定向耦 合器、三銷(xiāo)釘調(diào)配器和直波導(dǎo) 穩(wěn)流電源 和水冷磁體 ф160×210 ECR－800 等離子體源 800W高穩(wěn)定 程控微波源 BJ-26環(huán)行器、水阻、定向耦 合器、三銷(xiāo)釘調(diào)配器和直波導(dǎo) 穩(wěn)流電源 和水冷磁體 ф136×180 ECR－200 等離子體源 200W高穩(wěn)定 程控微波源 同軸微波電纜 永磁體 ф40×55 型號(hào) 配用的等 離子體源 沉積室尺寸 基片臺(tái) 抽充氣系統(tǒng) 電控柜 直徑 加熱溫度 ECR PECVD -1500 ECR－1500 ф450×500 200 450℃ 1300L/s分子 泵兩路流量計(jì) 1800 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR PECVD -800 ECR－800 ф350×400 150 450℃ 600L/s分子 泵兩路流量計(jì) 1800 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR PECVD -200 ECR－200 ф200×300 50 450℃ 110L/s分子 泵兩路流量計(jì) 1400 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 型號(hào) 配用的等離子體源 刻蝕室尺寸 基片臺(tái) 抽充氣系統(tǒng) 電控柜 直徑 冷卻 ECR RIE -1500 ECR-1500W ф450×300 200 水冷 1300L/s分子 泵兩路流量計(jì) 1800 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR RIE -800 ECR-800W ф350×300 150 水冷 600L/s分子 泵兩路流量計(jì) 1800 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR RIE -200 ECR-200W ф200×300 50 水冷 110L/s分子 泵兩路流量計(jì) 1600 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 型號(hào) 配用的等 離子體源 橢圓鉬靶 距靶10cm處 輻照截面* 抽充氣系統(tǒng) 電控柜 ECR AB -1500 ECR-1500 150×180 水冷 ф150 1300L/s分子泵 100SCCM流量計(jì) 1800 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR AB -800 ECR-800 120×150 水冷 ф120 600L/s分子泵 50SCCM流量計(jì) 1800 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR AB -200 ECR-200 50×70 水冷 ф50 110L/s分子泵 20SCCM流量計(jì) 1600 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 型 號(hào) 配用的等 離子體源 三電極加 速柵尺寸 離子束參數(shù) 電控柜 能量（V） 流強(qiáng)（mA） ECR IB－1500 ECR－1500 ф200 100－2000 100－1000 1800標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR IB－800 ECR－800 ф150 100－2000 60－600 1800標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 ECR IB－200 ECR－200 ф60 100－2000 10－100 1600標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 2kV－50kV 1－100   1.任兆杏 盛艷亞 史義才,“微波ECR等離子體輔助物理汽相沉積技術(shù)”,19(8),(19 90) P497. 2.任兆杏 陳俊芳等，“ECR－PECVD制備Si3N4薄膜的特性及其應(yīng)用的研究”，電子 學(xué)報(bào)，24(2)（1996）； 3.張勁松 任兆杏等“平面光波導(dǎo)膜的ECR-PECVD制備及特性研究”，真空科學(xué)與技 術(shù)，20卷，第3期，2000年； 4.張勁松 任兆杏等“ECR-PECVD制備SiO2薄膜中襯底射頻偏壓的作用”，核聚變與 等離子體物理，第21卷，第1期，2001年； 5.呂慶敖 任兆杏等“用于電離層環(huán)境模擬器的ECR等離子體源”，真空科學(xué)與技術(shù) 第21卷 第三期 2001年5月； 6.REN Zhao-xing(任兆杏) SHEN Ke-ming(沈克明) LU Qing-ao(呂慶敖) Atomic-O xygen Beam Source with Compact ECR Plasma, Plasma Science & Technology, Vol.4, No.5(2002)     華南師范微波ECR 天津理工大學(xué)微波ECR裝置 離子源-微波ECR 西北工業(yè)大學(xué)氧原子束源裝置