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射頻ICP(感性耦合等離子體)發(fā)生裝置的工作原理是:由射頻源產(chǎn)生的射頻功率(13.
56MHz)經(jīng)射頻電纜傳輸,至電感線圈耦合到石英或陶瓷腔中;感應(yīng)的射頻電場(chǎng)加熱電子,電
離充入真空室中的工作氣體產(chǎn)生高密度等離子體。等離子體擴(kuò)散至下游處理室,用于在基片
表面沉積薄膜或刻蝕,或用于產(chǎn)生離子束等。 |
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| 型 號(hào) |
射頻源 |
感應(yīng)腔尺寸 |
感應(yīng)線圈 |
| ICP |
TCP |
| ICP-1500等離子體源 |
1500W射頻源 |
ф200×300 |
ф200×100 |
水冷感應(yīng)線圈 |
| ICP-800等離子體源 |
800W射頻源 |
ф150×220 |
ф150×80 |
水冷感應(yīng)線圈 |
| ICP-300等離子體源 |
300W射頻源 |
ф60×90 |
ф60×50 |
水冷感應(yīng)線圈 |
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| 型號(hào) |
配用的等
離子體源 |
沉積室尺寸 |
基片臺(tái) |
抽充氣系統(tǒng) |
電控柜 |
| 直徑 |
加熱溫度 |
CCPECVD
-1500 |
ICP-1500 |
ф450×300 |
200 |
450℃ |
1300L/s分子
泵兩路流量計(jì) |
1800
標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
CCPECVD
-1500 |
ICP-800 |
ф350×400 |
150 |
450℃ |
600L/s分子
泵兩路流量計(jì) |
1400
標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
CCPECVD
-1500 |
ICP-200 |
ф200×300 |
50 |
450℃ |
110L/s分子
泵兩路流量計(jì) |
1400
標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
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| 型號(hào) |
射頻源功率 |
刻蝕室尺寸 |
基片臺(tái) |
抽充氣系統(tǒng) |
電控柜 |
| 直徑 |
冷卻 |
ICP RIE
-1500 |
ICP-1500W |
ф450×300 |
200 |
水冷 |
1300L/s分子
泵兩路流量計(jì) |
1800
標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
ICP RIE
-800 |
ICP-800W |
ф350×300 |
150 |
水冷 |
600L/s分子
泵兩路流量計(jì) |
1400
標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
ICP RIE
-300 |
ICP-200W |
ф200×300 |
50 |
水冷 |
110L/s分子
泵兩路流量計(jì) |
1400
標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
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| 4.射頻ICP表面處理機(jī)有關(guān)參數(shù)與射頻ICP刻蝕機(jī)類同 |
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| 型 號(hào) |
配用的等
離子體源 |
三電極加
速柵尺寸 |
感應(yīng)腔尺寸 |
感應(yīng)線圈 |
| ICP |
TCP |
| ICP IB-1500 |
ICP-1500 |
ф200 |
100-2000 |
100-1000 |
1800標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
| ICP IB-800 |
ICP-800 |
ф150 |
100-2000 |
60-600 |
1400標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
| ICP IB-300 |
ICP-300 |
ф60 |
100-2000 |
10-100 |
1400標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜 |
| 2kV-50kV |
1-100 |
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